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        技術(shù)支持

        雙折射測量系統
        更新時(shí)間:2017-09-04   點(diǎn)擊次數:4416次

        雙折射(birefringence)是指一條入射光線(xiàn)產(chǎn)生兩條折射光線(xiàn)的現象 。將一塊冰洲石(透明的方解石)放在書(shū)上看,它下面的線(xiàn)條都變成雙影 。

        雙折射是光束入射到各向異性的晶體,分解為兩束光而沿不同方向折射的現象。光在非均質(zhì)體中傳播時(shí) ,其傳播速度和折射率值隨振動(dòng)方向不同而改變,其折射率值不止一個(gè);光波入射非均質(zhì)體,除特殊方向以外 ,都要發(fā)生雙折射,分解成振動(dòng)方向互相垂直、傳播速度不同、折射率不等的兩種偏振光,此現象即為雙折射 。如圖1

        ?                        圖 1

        雙折射具有大小和方向兩種特征,雙折射的大小也可以說(shuō)是相位差的大小,相位差是同時(shí)入射樣品的兩種不同方向的偏振光射出時(shí)所產(chǎn)生的差距。方向性是材料的分子排列方向。比較和計算透光前后的偏光變化,便可測量雙折射。

         市場(chǎng)上簡(jiǎn)單的雙折射設備, 圖2是將測量的對象放在兩塊偏光板中間下面打上光源,旋轉兩塊偏光板通過(guò)人眼來(lái)觀(guān)察明暗及顏色的變化,來(lái)推測雙折射的大小。在光學(xué)材料和元件的制造過(guò)程中,這種設備是極其不可靠的,因此在光學(xué)材料及元件的制造中,確定雙折射的大小和應力的空間分布極其重要的。              圖2

        由于現在的科技高速發(fā)展,所以在的產(chǎn)品的研發(fā)和工藝的改造方面都要求很高的效率和度。在光學(xué)材料及元件的雙折射測量方面的手段也在進(jìn)行著(zhù)新老的更替,一款使用方便,測量數度快且的設備被開(kāi)發(fā)了出來(lái)  如圖3所示,已經(jīng)實(shí)現了符合市場(chǎng)需求的的測量功能,該設備可以快速的分析整個(gè)被測區域的雙折射情況。

                                       圖3

        為了更加和的測量數據,該設備的核心原理是采用*的光子晶體制成的傳感器圖(原理見(jiàn)圖4),光子晶體是將數十萬(wàn)個(gè)4種不同偏振方向且大小只有5um×5um的偏光片,集合而制成的光子晶體整列,讓和將光子晶體上的每一5um×5um大小的偏光陣列與CCD相機上的每一個(gè)像素單元一一貼合對應,用4種不同方向的偏光片來(lái)代替上述我們說(shuō)的旋轉偏光片的動(dòng)作。

         

                                       圖4

        使用組裝了*的傳感器的攝像機,拍攝測量物體,可以在zui快3秒的時(shí)間得到整個(gè)測量面測量數據,如圖5所示,測量結果可以讓使用者一目了然的觀(guān)察到,測量物體的雙折射情況,而且還可以利用軟件的功能,取得這個(gè)面上的任意一條線(xiàn)或者一個(gè)點(diǎn)的雙折射數值  如圖6所示。

        ?       

                  

        圖5:導光板(注塑成型)的測量結果

             

         

         

          圖6:(導光板)表格的曲線(xiàn)圖代表白線(xiàn)的雙折射數據

        圖5: 顏色越藍 說(shuō)明雙折射(應力)越小 顏色越紅說(shuō)明雙折射(應力)越大

         

        應用

        雙折射測量系統更易于快速、的測量應力雙折射及其空間分布和方向。與逐點(diǎn)測量方法相比,圖像測量系統具有明顯的優(yōu)勢,除了對空間分辨率有較高要求的應用外,相對較低的面形質(zhì)量要求也是一個(gè)重要的方面。

        雙折射測量系統可以應用于產(chǎn)品生產(chǎn)的整個(gè)流程, 如射出成型的產(chǎn)品,從原材料的選擇,到成型的條件,工藝的改進(jìn)以及產(chǎn)品完成后的檢查,可以有限的降低企業(yè)的成本,提高產(chǎn)品的附加值。圖7是應用的范圍。

         

                                                  圖7

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