產(chǎn)品目錄
聯(lián)系方式
聯(lián)系人:魯工 王工
手機:13910937780,17600738803
電話(huà):010-69798892
地址:北京市昌平區回龍觀(guān)西大街115號龍冠大廈3層
郵編:102208
郵箱:17600738803@163.com
產(chǎn)品中心
ME-210-T膜厚測量?jì)x
ME-210-T膜厚測量?jì)x為一種光學(xué)系膜厚測量裝置,這個(gè)裝置的特點(diǎn)是可以高精度測量1nm一下的極薄膜,也適合測量玻璃等透明基板上的薄膜。ME-210-T 活用了本公司*的偏光Senor 技術(shù),將不能變?yōu)榭赡?,以往的技術(shù)是無(wú)法測量0.5mm厚的玻璃基板,在這項技術(shù)下,可進(jìn)行極薄膜的高精度測量,舉例來(lái)說(shuō)顯示器用的ITO膜或配向膜的評估,也可運用ME-210-T輕松達成。
ME-210-T膜厚測量?jì)x適用透明基板的高速Mapping橢偏儀,可測量透明基板上的光阻膜及配向膜分布。
橢偏儀為一種光學(xué)系膜厚測量裝置,膜厚測量?jì)x這個(gè)裝置的特點(diǎn)是可以高精度測量1nm一下的極薄膜,也適合測量玻璃等透明基板上的薄膜。
ME-210-T膜厚測量?jì)x用了本公司*的偏光Senor 技術(shù),將不能變?yōu)榭赡?,以往的技術(shù)是無(wú)法測量0.5mm厚的玻璃基板,在這項技術(shù)下,可進(jìn)行極薄膜的高精度測量,舉例來(lái)說(shuō)顯示器用的ITO膜或配向膜的評估,也可運用ME-210-T輕松達成。
ME-210-T的高精度膜厚分布資料,定會(huì )對先進(jìn)的薄膜產(chǎn)品的生產(chǎn)有的用途。
特點(diǎn)
1,高效的測量速度(每分約1000點(diǎn):)可短時(shí)間內取得高密度的面分布數據。
2,微小領(lǐng)域量測(20un左右)可簡(jiǎn)單鎖定&測量任一微小區域。
3,可測量透明基板
適用于解析玻璃基板上的極薄膜。
測量實(shí)例
涂布膜邊緣擴大測量
可階段性擴大微小領(lǐng)域,然后獲得詳細的膜厚分布數據。
GaAs Wafer 上酸化膜厚的分布測量
縮小膜厚顯示范圍,膜厚差距不大的樣品,也可以簡(jiǎn)單評估、比較其分布狀況。
設備參數
項目 | 規格 |
光源 | 半導體激光(636nm、class2) |
小測量領(lǐng)域 | 廣域模式:0.5mm×0.5mm |
高精細模式:5.5um×5.5um | |
入射角 | 70『deg』 |
測量再現性 | 膜厚:0.1nm 折射率:0.001 ※1 |
大測量速度 | 1000point/min(廣域模式) |
5000point/min(高精密模式) | |
載物臺 | 行程:XY200mm以上 大移動(dòng)速度:約40mm/scc |
尺寸/重量 | 約650×650×1740mm(W×D×H)/約200kg |
電源 | AC100V |
備注 | ※1:此數值是以廣域模式測量SiO2膜(膜厚約100mm)其中一點(diǎn),重復測量100次后的標準偏差值 |